3D无掩膜光刻系统                            得益于专利的A2PL®双光子对准光刻技术，Nanoscribe的3D光刻打印系统能帮助用户制造优于

3D维纳加工系统                          100 nm特征尺寸和优于5 nm Ra表面粗糙度的产品，可实现亚微米级别的最小结构制造，是市场上最

3D激光光刻系统                          高分辨率的增材制造打印系统。借助Nanoscribe双光子聚合技术独有的高设计自由度和高精度特点，

3D生物打印系统                          用户可以制作具有亚微米级高精度机械元件和微机电系统，完成高精度的3D微纳加工和无掩膜光刻，

3D增材打印系统                          可用于折射和衍射微光学的微纳加工。Nanoscribe能以[敏感词]的速度制造光学级的光滑表面，进行几乎

Quantum X shape                      任何形状，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的创新设计。

Quantum X align                              Nanoscribe的技术已广泛应用于以下领域：纳米压印模版光刻、 3D无掩膜光刻、3D维纳加工、

Quantum X bio                          晶圆级批量生产、微机电系统(MEMS)、微型机器人、光子封装、微光学、微纳光学、折射微纳光学

Quantum X                                元件、多级衍射光学元件、微型成像光学、波导和混合折射衍射光学器件、微透镜阵列、微流体/微流

Photonic Professional GT2        道系统、生命科学(微型生物医学装置、微针技术、细胞工程、生物制药)、材料工程(创新超材料、仿
                                                  生微结构)、表面工程等。